532 nm 4F光束中继系统

针对532 nm激光设计的4F光束中继模块,可用于光束传递、像面中继、空间滤波及光场调节。

适用于: · 激光实验 · 空间滤波 · 光束整形 · 光学成像实验 · 精密光路集成

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532 nm 4F光束中继系统

产品概览

532 nm 4F光束中继系统

本产品基于标准4F光学结构设计,用于实现高质量激光光束的中继传输与稳定控制。在保持光束基本参数稳定的同时,可在傅里叶面进行灵活的光学调控。 除标准光束中继功能外,该系统可根据客户需求进行扩展设计,例如加入空间滤波模块、光阑控制、偏振调制或光束整形单元,以满足不同科研与工程应用需求。 我们提供从单一光学模块到完整光学系统的定制设计与集成服务,可根据应用场景进行光路优化与系统级方案开发。

  • 标准4F光学中继结构设计
  • 支持光束准直与稳定传输
  • 可扩展傅里叶面光学调控
  • 支持空间滤波与光束整形模块集成
  • 模块化光学系统设计
  • 支持多种科研级光学应用
  • 提供系统级定制与光路优化服务

技术参数

技术指标

系统类型 4F光学中继与光束调控系统
工作波长 可定制(示例:532 nm)
光学结构 4F relay 光学架构
系统功能 光束中继 / 准直 / 调控
模块能力 支持空间滤波 / 光束整形 / 偏振调制
结构形式 模块化光学设计
定制能力 支持系统级光学方案定制
应用方向 科研光学 / 激光系统 / 成像系统

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